ASML hat mit seinen drei wichtigsten Kunden Samsung, TSMC und Intel eine Einigung auf größere Photomasken erzielt, die den Durchsatz moderner EUV-Lithografie-Maschinen um 40 Prozent steigern sollen – ein Game-Changer für KI-Chip-Produktion. Parallel reagiert China mit einer Gegenoffensive: Huawei koordiniert mit dem Ausrüster Yuliangsheng und einem Netzwerk von Zulieferern den Aufbau einer eigenen Lithografie-Infrastruktur, um die westliche Abhängigkeit zu brechen. Der Artikel beleuchtet, wie die Halbleiter-Fertigung zur Schnittstelle globaler Machtkämpfe wird – wer die Lithografie kontrolliert, kontrolliert den KI-Vorsprung für Jahre.
